Seto 1.60 fotokromaj lensoj SHMC

1) Kio estas spina tegaĵo?

Spina tegaĵo estas proceduro uzata por deponi uniformajn maldikajn filmojn sur platajn substratojn. Kutime malgranda kvanto da revesta materialo estas aplikata sur la centro de la substrato, kiu aŭ ŝpinas je malalta rapideco aŭ tute ne turniĝas. La substrato tiam estas rotaciita rapide ĝis 10.000 rpm por disvastigi la tegaĵan materialon per centrifuga forto. Maŝino uzata por spina tegaĵo estas nomata spina tavolilo, aŭ simple spinner.
Rotacio daŭras dum la fluido ŝprucas de la randoj de la substrato, ĝis la dezirata dikeco de la filmo estas atingita. La aplikata solvilo estas kutime volatila, kaj samtempe forvaporiĝas. Ju pli alta estas la angula rapideco de ŝpinado, des pli maldika la filmo. La dikeco de la filmo dependas ankaŭ de la viskozeco kaj koncentriĝo de la solvo, kaj la solvilo. [2] Emslie et al. [5] kiu trovis universalan priskribon por antaŭdiri la deponitan filman dikecon).
Spina tegaĵo estas vaste uzata en mikrofabrikado de funkciaj oksidaj tavoloj sur vitraj aŭ unuopaj kristalaj substratoj uzante sol-ĝelajn pionirojn, kie ĝi povas esti uzata por krei uniformajn maldikajn filmojn kun nanoskalaj dikecoj. [6] Ĝi estas uzata intense en fotolitografio, por deponi tavolojn de fotorezisto ĉirkaŭ 1 mikrometro dika. Fotorezisto estas tipe ŝpinita je 20 ĝis 80 revolucioj por dua dum 30 ĝis 60 sekundoj. Ĝi ankaŭ estas vaste uzata por fabrikado de ebenaj fotonaj strukturoj faritaj el polimeroj.
Unu avantaĝo por ŝpini revestantajn maldikajn filmojn estas la unuformeco de la filmo -dikeco. Pro mem-nivela, dikecoj ne varias pli ol 1%. Tamen, spina tegaĵo pli dikaj filmoj de polimeroj kaj fotorezistoj povas rezultigi relative grandajn randajn bidojn, kies planado havas fizikajn limojn.