SETO 1.67 Fotokroma Lenso SHMC

1) Kio estas spina tegaĵo?

Spinkovraĵo estas proceduro uzita por deponi unuformajn maldikajn filmojn sur plataj substratoj.Kutime malgranda kvanto de tega materialo estas aplikata sur la centro de la substrato, kiu aŭ turniĝas je malalta rapideco aŭ tute ne turniĝas.La substrato tiam estas rotaciita kun rapideco ĝis 10,000 rpm por disvastigi la tegmaterialon per centrifuga forto.Maŝino uzata por ŝpina tegaĵo estas nomita ŝpina kovrilo, aŭ simple ŝpinilo.
Rotacio estas daŭrigita dum la likvaĵo turniĝas de la randoj de la substrato, ĝis la dezirata dikeco de la filmo estas atingita.La aplikata solvilo estas kutime volatila, kaj samtempe vaporiĝas.Ju pli alta estas la angula rapido de turnado, des pli maldika estas la filmo.La dikeco de la filmo ankaŭ dependas de la viskozeco kaj koncentriĝo de la solvaĵo, kaj la solvilo.Pionira teoria analizo de spintegaĵo estis entreprenita fare de Emslie et al., kaj estis etendita fare de multaj postaj verkintoj (inkluzive de Wilson et al., kiuj studis la indicon de disvastiĝo en spintegaĵo; kaj Danglad-Flores et al., kiuj trovis universala priskribo por antaŭdiri la deponitan filmdikecon).
Spinkovraĵo estas vaste uzita en mikrofabrikado de funkciaj oksidtavoloj sur vitro aŭ unukristalaj substratoj uzantaj sol-ĝelan antaŭulojn, kie ĝi povas esti uzita por krei unuformajn maldikajn filmojn kun nanoskalaj dikaĵoj.[6]Ĝi estas uzata intense en fotolitografio, por deponi tavolojn de fotorezisto proksimume 1 mikrometron dikaj.Fotorezisto estas tipe ŝpinita je 20 ĝis 80 revolucioj je sekundo dum 30 ĝis 60 sekundoj.Ĝi ankaŭ estas vaste uzita por la fabrikado de planaj fotonaj strukturoj faritaj el polimeroj.
Unu avantaĝo al ŝpini tegantaj maldikaj filmoj estas la unuformeco de la filmdikeco.Pro mem-nivelado, dikecoj ne varias pli ol 1%.Tamen, spina tegaĵo pli dikaj filmoj de polimeroj kaj fotorezistoj povas rezultigi relative grandajn randperlojn kies planariĝo havas fizikajn limojn.